真空爐是一種可以在高溫下制備資料的設(shè)備，一般需要在載體（如石英管）內(nèi)部抽出氣體，以創(chuàng)造一個低壓環(huán)境。在真空爐中，真空度是一個非常要害的指標。
一般來說，真空爐的真空度要求應(yīng)該在10^-5至10^-6的范圍內(nèi)，即每立方厘米的氣體分子數(shù)在這個范圍內(nèi)。一般情況下，真空度越高，資料的制備質(zhì)量就越高，因此對某些特殊范疇（如航空、航天）的資料制備，真空度要求可到達10^-8乃至10^-10。
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