真空爐石墨件中使用的加熱石墨應(yīng)是高純度、高強度、等靜壓各向同性的，否則無法獲得可靠的高溫性能、電性能和使用壽命。國產(chǎn)石墨真空爐采用國產(chǎn)石墨爐型，多為中低溫石墨真空爐，要求不高。相信隨著國產(chǎn)石墨質(zhì)量的提高，石墨將在高溫爐中得到廣泛應(yīng)用。
由于石墨真空爐低溫冷卻速度慢，建議采用低溫快速冷卻措施，以提高生產(chǎn)效率。低溫快速冷卻可采用爐內(nèi)循環(huán)和爐外循環(huán)兩種方式，一般采用惰性氣體作為冷卻氣體。
通常，業(yè)界將石墨真空爐按照溫度分為三種:低溫石墨真空爐、中溫石墨真空爐、高溫石墨真空爐。
石墨真空爐內(nèi)襯(加熱器和反射器)的材料選擇；
氣體保護或石墨真空爐的材質(zhì)選擇通常只有鎢、鉭和石墨。
低溫石墨真空爐:工作溫度低于1150℃的爐子；中溫石墨真空爐:工作溫度1150℃至1600℃的爐子；石墨真空爐:工作溫度高于1600℃的爐子；
石墨真空爐常用加熱材料的性能特點:
石墨一般在真空中2200℃使用，但在真空中2300℃揮發(fā)明顯加快，在保護氣氛(惰性氣體)中由于壓力因素揮發(fā)減弱，2400℃也可以使用。
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